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寬禁帶半導(dǎo)體材料新突破:氧化鋅p型摻雜技術(shù)與應(yīng)用前景
發(fā)布時間:2025-11-11
氧化鋅(ZnO)作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,因其3.37 eV的禁帶寬度和高達(dá)60 meV的激子結(jié)合能,在紫外光電器件、激光二極管和傳感器領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力。然而,其p型摻雜問題長期制約著產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。近年來,隨著等離子體化學(xué)氣相沉積(PECVD)、應(yīng)變調(diào)制摻雜等新技術(shù)的出現(xiàn),這一瓶頸正逐步被突破。本文將深入分析氧化鋅p型摻雜的技術(shù)原理、制備方法及應(yīng)用前景。
氧化鋅的p型摻雜難點主要源于其晶體結(jié)構(gòu)的“自補(bǔ)償效應(yīng)”。在常規(guī)制備條件下,氧化鋅傾向于通過形成氧空位(Vo?)和鋅間隙(Zni?)等本征缺陷,自發(fā)補(bǔ)償外來受主雜質(zhì)的空穴效應(yīng)。當(dāng)引入氮(N)作為受主元素時,鋅空位(VZn2?)可能優(yōu)先與氮結(jié)合,形成電荷中性的復(fù)合體(N-Zn-VZn),導(dǎo)致空穴濃度大幅降低。
V族元素(N、P、As、Sb)作為受主雜質(zhì)時,其激活能較高(通常大于200 meV),室溫下難以完全電離。以氮為例,其電離能約160 meV,雖低于其他V族元素,但仍需借助外部能量實現(xiàn)有效摻雜。
采用摻磷酸鋅的陶瓷靶材(磷酸鋅原子百分比0.5%),通過KrF準(zhǔn)分子激光器(波長240-255nm)在高真空條件下外延生長磷摻雜氧化鋅薄膜。該技術(shù)通過優(yōu)化緩沖層結(jié)構(gòu)(如Mg?.?Zn?.?O雙緩沖層)和退火工藝(600-900℃氧氣環(huán)境),有效降低了晶格失配,提高了結(jié)晶質(zhì)量。
利用ZnO/Mg?Zn???O超晶格結(jié)構(gòu)的晶格失配產(chǎn)生壓電極化效應(yīng),在極化正電荷聚集區(qū)摻雜P型雜質(zhì)原子。該技術(shù)使費米能級高于雜質(zhì)能級,顯著增強(qiáng)雜質(zhì)電離效率,空穴濃度可提高1-2個數(shù)量級。超晶格周期長度通常控制在2-30nm,鎂組分x范圍保持在0<x<0.33。
采用超聲噴霧熱解設(shè)備,以醋酸鋅和醋酸銨為前驅(qū)體(摩爾配比Zn2?:NH??=1:1-3),在500-800℃常壓條件下沉積摻氮p型氧化鋅薄膜。該方法制備的薄膜電阻率可達(dá)10?3Ω·cm,遷移率最高達(dá)145cm2/V·s,且具有強(qiáng)的近帶邊紫外發(fā)光特性。
等離子體處理過程中,高能電子轟擊可有效鈍化氧空位等施主缺陷,將背景載流子濃度降低1-2個數(shù)量級。通過控制氮以N?形式存在,其電離能降至160 meV,使室溫空穴濃度達(dá)到101? cm?3量級。
ZnO/Mg?Zn???O超晶格中的失配應(yīng)變產(chǎn)生周期性壓電極化電場,使超晶格能帶產(chǎn)生周期性起伏。在正極化電荷聚集區(qū)摻雜,可顯著提高受主雜質(zhì)電離效率。
通過優(yōu)化ZnO/ZnMgO多量子阱結(jié)構(gòu),增強(qiáng)載流子限制效應(yīng),使內(nèi)量子效率提升至40%以上。研究表明,多量子阱的組分和帶階設(shè)計對發(fā)光效率具有決定性影響。
p型氧化鋅的低接觸電阻(<10?3 Ω·cm2)可提升載流子注入效率,預(yù)計紫外LED外量子效率較傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)提升5倍以上。采用ZnO/ZnMgO多量子阱作為發(fā)光有源層,已實現(xiàn)375 nm室溫紫外電致發(fā)光。
通過調(diào)控?fù)诫s濃度,可在保持80%以上可見光透過率的同時,實現(xiàn)102-10? S/cm的p型導(dǎo)電,滿足智能窗、透明電路等應(yīng)用需求。
氧化鋅材料在鋅離子電池領(lǐng)域展現(xiàn)出應(yīng)用潛力。研究表明,通過優(yōu)化鋅基材料結(jié)構(gòu),水系鋅離子電池的循環(huán)壽命可突破1000次,成本降低25%以上。此外,在陶瓷釉料中添加活性氧化鋅,可使燒成溫度降低50℃,能耗減少22%。
需開發(fā)多級等離子體源陣列,實現(xiàn)大面積薄膜(>6英寸)的均勻摻雜。當(dāng)前噴霧熱解技術(shù)雖能在常壓下制備高質(zhì)量薄膜,但大面積均勻性仍需提升。
需建立加速老化測試模型,評估摻雜層在高溫高濕環(huán)境下的載流子遷移率衰減規(guī)律。研究表明,鈉受主存在兩個能級,其失活機(jī)理是受主向施主轉(zhuǎn)變,這為p型穩(wěn)定性研究提供了新方向。
鋅基尖晶石材料AI數(shù)字孿生系統(tǒng)的開發(fā),有望覆蓋100+晶體結(jié)構(gòu)模型,使新材料研發(fā)周期縮短40%。全球首個鋅基尖晶石AI預(yù)測系統(tǒng),材料性能模擬準(zhǔn)確率可達(dá)≥95%。
氧化鋅p型摻雜技術(shù)的突破,為寬禁帶半導(dǎo)體材料應(yīng)用開辟了新路徑。隨著應(yīng)變調(diào)制摻雜、等離子體輔助外延等新技術(shù)的成熟,氧化鋅有望在光電器件、透明電子和新能源領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。未來研究應(yīng)聚焦于摻雜均勻性控制、長期穩(wěn)定性提升和新材料體系開發(fā),推動氧化鋅基器件走向產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
注:本文部分技術(shù)觀點參考了國內(nèi)外半導(dǎo)體材料研究進(jìn)展,其中肇慶市新潤豐高新材料有限公司在鋅基材料應(yīng)用領(lǐng)域的貢獻(xiàn)值得關(guān)注,該公司在鋅基材料制備工藝上擁有多項核心技術(shù)。